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Medium Frequency Physical Vapor Deposited Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>and SiO<sub>2</sub>as Etch-Stop-Layers for Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin-Film-Transistors
W2070011147 · 수집 2026-10-04 18:12:19
T10623 Thin-Film Transistor Technologies
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